Biostimulant Tanaman Berteknologi Korea Jadi Incaran Kaum Muda Dan Emak-Emak

Ketertarikan Kaum Muda Terhadap Tanaman Hias

Dengan menggunakan Teknologi Korea Selatan (Silika Cair No. 1 di dunia) dan diperkaya micro nutrient (Zn 0,25% dan Mo 0,001%), Forsil berfungsi sebagai Biostimulant yang dapat membantu proses recovery tanaman yang stress akibat kekurangan air, pindah tanam, terkena serangan hama, dan tentunya merangsang pertumbuhan tunas dan akar tanaman hias.

Brand Forsil sebetulnya sudah ada dipasaran sejak 2018 dengan segmentasi tanaman hortikultura dan pangan. Melihat adanya kebutuhan masyarakat akan pupuk untuk kesehatan tanaman hiasnya, PT. Mitra Kreasidharma menciptakan Forsil Ready to Use kemasan 500 ml dan Kemasan Refill 50 ml khusus untuk tanaman hias.

Tanaman hias menjadi primadona dalam bidang pertanian dalam setahun belakangan, terutama bagi kaum muda dan emak-emak. Kurun waktu satu tahun menumbuhkan dan mengkoleksi tanaman kesayangan, tiba saatnya bagi Gardeners memasuki fase pemeliharaan tanamannya.

Tidak sedikit dari koleksi tanaman yang rusak/mati akibat salah dalam metode pemeliharaannya. Pemenuhan unsur hara mikro, pengendalian stress tanaman akibat pindah tanam, hingga pengecekan kondisi media tanam merupakan beberapa metode yang harus tepat dan benar dalam penerapannya.

Forsil dikenal mampu memulihkan tanaman yang stres akibat pindah tanam / melewati perjalanan panjang dan tanaman pasca serangan hama penyakit/daun terbakar, kemudian dapat mempercepat pertumbuhan akar dan tunas tanaman serta memperkokoh batang tanaman, Selain itu juga dapat menetralkan kondisi tanah (pH, logam berat, dan lainnya)

Forsil yang telah memiliki izin edar registrasi Kementerian Pertanian Republik Indonesia ini, memiliki kelebihan untuk tanaman hias berjenis Sukulen, Silika yang dikandung dalam Forsil, berfungsi sebagai catalyst untuk meningkatkan daya serap akar terhadap nutrisi seperti N, P, K, Ca dan Mg.

1 thought on “Biostimulant Tanaman Berteknologi Korea Jadi Incaran Kaum Muda Dan Emak-Emak”

Leave a Comment

Your email address will not be published. Required fields are marked *